技术特点
- 可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL
- 支持4-8英寸幅面基板
- 高刷新空间光调造无掩模直写
- 自动聚焦
- 3D描摹曝光、过问曝光、偏振曝光
- 多模式曝光(扫描式曝光、步进式曝光)
- 多工作模式自动运行
- GDSII、BMP、STL等文件体式支持
规格参数
* 参数取决于选配工件台幅面 * 具体指标因工艺差距有所分歧
利用示例
数字化光刻
高端仪器设备
Microlab 科研型多职能直写光刻系统
* 参数取决于选配工件台幅面 * 具体指标因工艺差距有所分歧